鋼研納克光譜儀采用高分辨率線陣CMOS作為檢測器，CMOS檢測儀器集成性高、讀取速度更快、功耗低、長期穩定性更高;每個像素自帶放大器，可對特殊元素進行強度調整，增加儀器的準確度，降低分析限，實現全譜掃描。采用智能控制光室充氣系統，儀器性能更穩定，服務期限更長久。海量的譜線使分析不再受限，曲線分段跳轉同一元素不同譜線間實現無縫銜接，拓展分析范圍三元素干擾校正使元素分析更加準確，可以在用戶現場任意增加材料基體和分析元素而無需增加硬件，維護保養方便。能量、頻率連續可調全數字固態光源，適應各種不同材料;網口采集傳輸，速度快，通用性更強。
 

　　鋼研納克光譜儀的產品特點：
 

　　1.分析速度快 一分鐘---分析15個元素以上
 

　　2.精密度高 相對標準偏差rsd≤1.5%
 

　　3.穩定性好 相對標準偏差rsd≤2.0%
 

　　4.檢出限低 μg∕l
 

　　5.分析元素多 可對70多種元素進行定量分析
 

　　6.操作便捷 全新windows運行環境功能齊全
 

　　7.全自動點火 氣路智能控制，納克光譜儀工作原理，實現軟件點火，更方便
 

　　8.安全 有冷卻水保護、滅弧保護更安全
 

　　采用多重屏蔽和良好的接地，使儀器輻射小于2v/m (jjg768-2005規定小于10v/m)。地操作者的安全。
 

　　鋼研納克光譜儀主要由一個光學平臺和一個檢測系統組成。包括以下幾個主要部分：
 

　　1. 入射狹縫: 在入射光的照射下形成光譜儀成像系統的物點。
 

　　2. 準直元件: 使狹縫發出的光線變為平行光。該準直元件可以是一獨立的透鏡、反射鏡、或直接集成在色散元件上，手持式納克光譜儀工作原理，如凹面光柵光譜儀中的凹面光柵。
 

　　3. 色散元件: 通常采用光柵，使光信號在空間上按波長分散成為多條光束。
 

　　4. 聚焦元件: 聚焦色散后的光束，使其在焦平面上形成一系列入射狹縫的像，其中每一像點對應于一特定波長。
 

　　5. 探測器陣列：放置于焦平面，用于測量各波長像點的光強度。該探測器陣列可以是ccd陣列或其它種類的光探測器陣列。